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    温控系统-温度均一化解决方案

    温控系统-温度均一化解决方案

    升温均衡、精度更高、控制效果更佳

    温度均一化控制是通过对多个温区的升温速度的控制,从而避免温度的超调和波动,可应用于锂电池真空烤箱、晶圆加工、光伏烧结炉、光伏烘干炉、注塑成型、压缩成型、挤出成型、玻璃热弯等行业。

    行业背景

    温度作为生产工艺中的重要指标,若升温速度不一致,将直接导致温度出现超调和波动,从而影响到Stake的加工工艺,导致良品率下降。

    温度均一化控制是通过对多个温区的升温速度的控制,从而避免温度的超调和波动,可应用于锂电池真空烤箱、晶圆加工、光伏烧结炉、光伏烘干炉、注塑成型、压缩成型、挤出成型、玻璃热弯等行业。

    系统原理

    温度均一化控制技术通过对多个温区的升温速度进行控制,有效抑制相邻通道间的相互干扰,同时能够保证整个加热过程中,各温区间的温差保持不变,实现对被控对象的均匀加热,达到提高Stake的加工质量、降低能耗的效果。

    控制方案

    温控系统一温度均一化解决方案共分为两部分,包括有均一化解耦与优化部分(工艺层)、PID控制部分(控制层)。PID控制部分轻松保证加工速度;均一化解耦与优化部分可确保多温区耦合作用下,依旧实现包含过渡响应在内的温区耦合均一性。

    整个解决方案采取?榛喑蹋换ひ詹阌隤ID控制层进行模块化,可将工艺层灵活搭配Stake官网PID指令,满足不同场景的客户需求;整个过程调试时间短,仅需简单设定即可实现均一化参数,轻松解决加热不均匀问题,实现每个温区升温速度的统一。

    方案优势

    升温均衡

    升温均衡,对多个温区进行同步控制,实现不同温区的均匀加热

    抑制温差

    抑制温差,不同温区之间的差值是传统PID方案的1/5

    低超调量

    低超调量,不同温区同时到达温度目标值,超调量更。

    低稳态误差

    低稳态误差,在恒温阶段的温度波动是传统PID方案的1/5,控制效果更佳

    高精度温控

    高精度温控,采集精度:0.3%,采集分辨率:0.01℃

    调试更便捷

    易调试,采用?榛庾暗闹噶睿浜献ㄓ玫魇匀砑,调试更加便捷

    系统拓扑

    调查问卷

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